FEI发布新的Flagship Helios NanoLab 双束系列 (Microimage 译)

http://www.microimage.com.cnTina(2010-05-14 17:46:23)

(以下内容由中国显微图像网译制,转载请注明!)

Helios在失效分析、3D纳米级特性分析、原型设计及其他研究上有绝对的竞争力!

    FEI刚发布最新的Helios NanoLab(TM) x50 DualBeam(TM)系列,这是目前市场上最强劲的通用系统。它整合了FEI的带有高品质离子束的超高分辨率扫描显微镜(XHR SEM),在半导体和材料科学研发上有着无可匹敌的成像能力。

“FEI首次将DualBeam技术商业化,与FEISEMFIB单个系统保持一致,我们发布了新的Helios NanoLab x50 DualBeam。为符合用户新一代成像的需求,Helios是目前市场上最合格最灵活的双束系统。” FEI市场战略总监John Williams说:它结合了无可匹敌的SEM成像系统,改进分辨率后的FIB碾磨品质,失效分析中先进的应用,还具有纳米特性分析、纳米原型设计、样品制备以及其他先进的分析技术。

“Helios 450系列最初是为需要突破一些挑战的尖端半导体实验室设计,这些挑战诸如收缩尺寸在32nm、先进的打包技术,还有需要TEM成像的高通量样品等。 ” Williams说。

Helios 650被设计用于那些做尖端材料特性分析和改变的学术及工业研究中心。为了更好的理解材料特性,如离子/有孔性分布、裂纹扩展,以及其他的行为等,它能提供更多的信息和高质量的3D数据。低束能量下,Helios 650亚纳米的分辨率能提供特定表面成像,直到目前,在其他双束机器上还不能实现。对于纳米原型设计,Helios也能使用户得到出更精细更复杂的结构,同时可以在毫米尺寸下更好的控制维度,还具有更快的材料取出速度等。

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